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淺析矽晶圓生產為何需要應用超純水設備？

時間：2024-07-01

　　前言：熟悉半導體領域的人都會了解矽晶圓，矽晶圓是半導體的核心，也是成本占比最高的材料，對純度也有超高要求，是一種為了製成半導體積體電路的原材料。本文淺析一下矽晶圓生產為何需要應用超純水設備。

　　矽晶圓作為半導體的核心部件，其在製造過程中需要應用超純水設備的原因有以下幾點：

　　1.對於清潔度的要求。矽晶圓製造過程中對水質清潔度要求非常高。普通水中的雜質和離子可能會影響到矽晶圓的品質和性能，因此需要使用超純水來清洗和加工矽晶圓。

　　2.製作中需要使用表麵活性劑來清洗矽晶圓表麵的汙垢和油脂。這些表麵活性劑對水的純淨度要求非常高，應用高度純淨的超純水，使表麵活性劑能夠充分發揮作用，有效清洗矽晶圓表麵的汙垢和油脂。

　　3.生產效率在矽晶圓製造過程中，使用超純水設備可以顯著提高生產效率。高度純淨的超純水可以快速蒸發，使矽晶圓更快地幹燥和冷卻，從而縮短生產周期和提高生產效率。

　　簡而言之，就是為了提高矽晶圓質量需要使用超純水設備。我國雖然半導體材料產業起步較晚，但是發展比較迅猛。那麽什麽樣的超純水設備才能產出高質量的超純水呢？

超純水設備

　　目前常見的超純水設備核心工藝為“預處理+反滲透+EDI+拋光混床”的組合形式。該超純水設備具有高效低能、運行成本低，水資源利用率高、體積較小、維修量小，運行時間長等優點。這樣的超純水設備在運行時是不需要添加任何化學品的，不僅減少了化學品運輸問題，同時降低了係統運行費用。並且設備不會有酸堿廢液產生，所以不需要酸堿中和池，一般情況下產出的濃水完全可以回收再利用，並且采用的設計結構相對靠緊，所以其占地非常小，可以為企業節省很多空間。

　　超純水設備可以更好的，連續的，穩定地製備高品質的超純水，完全符合矽晶圓生產用水水質標準。隨著我國科技半導體產業的不斷發展與壯大，對於矽晶圓的產出質量要求也會越來越高，所以對於使用超純水設備要求也會提高，這也將帶動相關產業的發展。

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　　編輯：新奇技術：加菲

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